In diesem Bereich werden u.a. alternative, auf der Selbstanordnung basierende Nanolithographieverfahren zur Herstellung regelmäßig, lateral strukturierter Funktionsschichten mit Strukturgrößen <100 nm für die verschiedensten Anwendungen entwickelt. So werden z.B. mittels Nanosphere Lithographie, bei welcher in einer Monolage dicht gepackte Nanokugeln als Lithographiemaske verwendet werden, regelmäßig angeordnete Metallnanocluster für das Wachstum von Nanodrähten hergestellt oder über eine Nano-Lochkamera makroskopische Objekte in die Nanometerdimension übertragen. Neben den Lithographieverfahren selbst stehen eine Reihe von vor- und nachgelagerten Prozessen, wie Reinigung, Belackung, Elektronenstrahlbedampfung im Hochvakuum, thermische Behandlung, sowie Nass- und Trockenätzprozesse unter Reinraumbedingungen zur Verfügung. Entwicklungsarbeiten laufen in Richtung Elektronenstrahl- und Nanoimprintlithographie.

Im Einzelnen stehen bisher folgende Untersuchungstechniken und Geräte zur Verfügung:

• 200 m² cleanroom of class 100

• Nanosphere lithography lab
• Anlagen zur thermischen bzw. Elektronenstrahlbedampfung
• Temperöfen

contact: Dr. Bodo Fuhrmann