Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften
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Martin-Luther-Universität
Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften
Nanotechnikum Weinberg
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D-06120 Halle, Germany
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In diesem Bereich werden u.a. alternative, auf der Selbstanordnung basierende Nanolithographieverfahren zur Herstellung regelmäßig, lateral strukturierter Funktionsschichten mit Strukturgrößen <100 nm für die verschiedensten Anwendungen entwickelt. So werden z.B. mittels Nanosphere Lithographie, bei welcher in einer Monolage dicht gepackte Nanokugeln als Lithographiemaske verwendet werden, regelmäßig angeordnete Metallnanocluster für das Wachstum von Nanodrähten hergestellt oder über eine Nano-Lochkamera makroskopische Objekte in die Nanometerdimension übertragen. Neben den Lithographieverfahren selbst stehen eine Reihe von vor- und nachgelagerten Prozessen, wie Reinigung, Belackung, Elektronenstrahlbedampfung im Hochvakuum, thermische Behandlung, sowie Nass- und Trockenätzprozesse unter Reinraumbedingungen zur Verfügung. Entwicklungsarbeiten laufen in Richtung Elektronenstrahl- und Nanoimprintlithographie.

Im Einzelnen stehen bisher folgende Untersuchungstechniken und Geräte zur Verfügung:

  • Labor für die Nanosphere Lithographie
  • Anlagen zur thermischen bzw. Elektronenstrahlbedampfung
  • Temperöfen

Ansprechpartner: Dr. Bodo Fuhrmann



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